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TEM Mill 精密离子减薄仪

型号:1051

两支独立可调电磁聚焦离子枪
同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复)
超宽加速电压范围:100eV 到10kV,不同加速电压下,离子束束斑均保 持最细最优束斑状态
每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测
采用可调节10英寸触屏控制系统,人机界面友好,操作简洁
减薄角度范围:-15°到 10°连续可调
样品载台X-Y 可调,可根据需要调整样品减薄位置
具备原位实时观察及记录减薄过程功能
样品可360°连续旋转或摇摆,离子束自动避让样品夹
可选液氮冷台配置,去除热效应对样品的损伤
可选真空或惰性气体转移装置,隔绝样品与水氧接触
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离子减薄技术简介

离子减薄技术通常采用惰性气体氩,通过将氩气离子化后,在电场加速作用下轰击到样品表面,利用动量转移的方式进行可控速率条件下,物理溅射轰击的方式对样品进行减薄,最终实现样品能够达到透射电镜所需的电子束穿透厚度。

TEM Mill 作为采用尖端技术制造的精密离子研磨及抛光系统,提供可靠、高性能的样品制备能力,能够为透射电镜制备满足电子束穿透的大面积薄区样品,同时具备紧凑、精确以及高稳定性的优点。

 

主要性能特点:

• 两支独立可调电磁聚焦离子枪

• 同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复)

• 超宽加速电压范围:100eV 到 10kV,不同加速电压下,离子束束斑均保持最细最优束斑状态

• 每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测

• 采用可调节10英寸触屏控制系统,人机界面友好,操作简洁

• 自动独立气源控制

• 减薄角度范围:-15°到 +10°连续可调

• 样品载台X-Y可调,可根据需要调整样品减薄位置

• 具备原位实时观察及记录减薄过程功能

• 样品可360°连续旋转或摇摆,离子束自动避让样品夹

• 可通过时间、温度以及透光性自动停止

• 可选液氮冷台配置,去除热效应对样品的损伤

• 可选真空或惰性气体转移装置,隔绝样品与水氧接触

 

常规300KV TEM/STEM拍摄,大面积均匀厚度亚埃尺度成像

 

Model 1051 TEM Mill 技术规格

离子源

两支TrueFocus聚焦离子源

可变能量范围100 eV到10 keV ,最大束流

密度可达10 mA/cm²

减薄角度 −15° 到 +10˚连续可调

可选择单枪或双枪工作模式

两支离子枪能量可独立调节

可选手动或自动马达离子枪

离子束角度、束斑大小均可调节

样品夹

绝佳的装样设计及导热性能

独特装载设计,能够满足至零度单面/双面

减薄均无阴影

可选带X-Y调节装样样品夹

样品台

样品尺寸: 3 mm 直径 x 250 µm厚度360°旋转且转速可调,同时样品台可摇摆磁编码器提供绝对定位精度

液氮冷台

可选液氮冷台设计,冷却时间分为3-5小时即18小时以上两种

具备自动程序化控温设计

自动终止

可根据时间、温度或透光性自动终止减薄

真空系统

分子泵加多级无油隔膜泵配有款量程冷阴极规

真空转移

可选真空转移或惰性气体保护下转移升级

气源

99.999%高纯氩气,使用压力 15 psi配备精确气体质量流量计

人机界面

10英寸触屏设计,可实现配方编程控制可选远程灯光指示器

尺寸/重量

127cm(W)X 77cm(H)X 102cm(D),73kg

电源

220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W

保修期

一年

 

Load Lock快速换样舱设计

SiTiO3球差电镜成像

数据来源:东京大 学工程创新研究所

应用更新中...
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400-606-8199

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