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NanoMill® TEM specimen preparation system 微束定点离子减薄系统

型号:1040

独有聚焦微束惰性气体离子束
极低修复电压:50 eV
聚焦束斑直径:1μm
定位精度高,去除非晶层且不产生再沉积现象
采用氩离子束激发二次电子成像同时实现修复及定位
离子束可以对准定点位置或在一个选定的区域进行进行精细修复
配备液氮冷台,去除热损伤
  • 产品特点
  • 产品应用
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革命性超低能量微束离子束制样设备,其采用惰性气体为气源,能够有效去除非晶层及离子注入问题,具备离子成像功能,能够高精度定位去除非晶层,是FIB制备样品后续精修绝佳制样工具。

当代TEM对于样品的要求

针对当下很多先进功能材料研究来说,透射电镜是最佳获取材料微观结构与物理特性的分析手段。

伴随着纳米科技研究的进步以及半导体制程的持续减小,制备出非常薄、无任何人为假象的样品变得越来越关键。这些需求对于当下具备亚埃级分辨率带球差矫正器及单色器的透射电镜来说更为关键。

 

NanoMill微束定点离子减薄仪采用极低能量同时经过聚焦的氩离子束,来制备超高质量的透射电镜样品。

 

• 超低能量的惰性气体离子源

• 具备扫描功能的聚焦离子束,最小离子束斑1微米

• 去除非晶层的同时 ,不产生任何二次沉积效应

• 特别适合FIB制备的样品的非晶层去除

• 能够增强传统离子减薄制备的样品的成像质量

• 可在室温或低温下进行制样修复,最低温度可到-170 ℃ 以下

• 快速换样设计,满足高通量样品制备的需求

• 计算机控制,所有操作均可可程序化设定,使用方便

• 无污染无油真空系统

 

标题为Main的页面是用来程序化控制及实时显示NanoMill操作参数和状态的页面。红色方框的位置就是用来定位感兴趣区域,该区域为FIB制备好的样品粘到 Omniprobe ™ 铜网上的一个手指上的位置图

 

 

80kV下原子分辨率成像,样品厚度约7nm,

图片来源:J. Mayer and M. Luysberg, Ernst Ruska Centre, Juelich, Germany and C. Kisielowski,Lawrence Berkeley Laboratory (NCEM).

 

 

黄色EDS结果为FIB制样后采集,红色曲线为NanoMill修复之后的EDS结果,可以发现明显去除了Ga离子注入的问题

 

Model 1040 NanoMill ® 技术规格

离子源

灯丝型离子源结合电磁透镜系统

加速电压范围50 eV到2 keV),连续可调

最大束流密度1 mA/cm 2

束斑直接 1 µm @2,000 eV

样品台

具备预换样设计,10s内可完成换样研磨角度范围 −12° 到 +30°

真空系统

分子泵加无油机械泵组合

系统基本真空3 x 10 -7 mbar

操作时真空1 x 10 -4 mbar

气源

采用质量流量计自动控制设计

最大气流 2 sccm

99.999%高纯氩气

样品对位

离子束可以对准定点位置或在一个选定的区域进行进行精细修复

人机界面

菜单驱动设计

修复过程可程序化自动控制

样品冷却

带自动控温液氮冷台系统

样品台最低温度可达 –170 °C

系统冷却时间<20 分钟

样品冷却时间<5 分钟

成像

配备3mm视野范围的二次电子探头

E-T探头

样品图像信息显示到控制触屏界面

尺寸重量

991mm(W) x1,474 mm(H)x788mm(D)

230.5 kg

电源

220 V AC, 50/60 Hz, 1,000 W

保修期

一年

 

SrTiO3 <100>球差矫正HAADF STEM 图像 预换样室打开状态示意图
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